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北京市所在地
NanoMap 500LS扫描三维表面轮廓仪
特点
常规的接触式轮廓仪和扫描探针显微镜技术的*结合
双模式操作(针尖扫描和样品台扫描),即使在长程测量时也可以得到*化的小区域三维测图
针尖扫描采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式,三维扫描范围从10μm X 10μm 到500μm X 500μm。样品台扫描使用高级别光学参考平台能使长程扫描范围到
在扫描过程中结合彩色光学照相机可对样品直接观察
针尖扫描采用双光学传感器,同时拥有宽阔测量动态范围(zui大至500μm)及亚纳米级垂直分辨率 (zui小0.1nm )
软件设置恒定微力接触
简单的2步关键操作,友好的软件操作界面
应用
三维表面轮廓测量和粗糙度测量,即适用于精密抛光的光学表面也可适用于质地粗糙的机加工零件。
薄膜和厚膜的台阶高度测量
划痕形貌,磨损深度、宽度和体积定量测量
空间分析和表面纹理表征
平面度和曲率测量
二维薄膜应力测量
微电子表面分析和MEMS表征
表面质量和缺陷检测
环境要求
湿度:10-80%, 相对湿度,无冷凝
温度:65-85 华氏度(△T<1度/小时)
电源要求:110/240V,50/60 Hz
技术规格
类型 项目 规格
综述 小范围XY扫描头,提供高精确度
XY平台扫描,提供大尺度测量
带亮场和暗场的全时彩色CCD照相机
软件控制触针测量力,范围 0.1-100mg
触针针尖半径选件 2μm,5 μm,12.5 μm和25 μm,0.1-0.8μm可选
针尖扫描
(Piezo扫描器) 台阶高度重现性 0.8nm
垂直分辨率 0.1nm
测量高度精细范围 5μm
测量高度粗略范围
XY扫描分辨率 0.1μm
XY扫描定位重现性 0.2μm
扫描速度 10-50μm/sec
扫描范围 10-500μm
每次扫描数据点 100-1000数据点
样品台扫描 XY样品区域
XY平台运动范围
XY平台定位重现性 5μm,2μm可选
zui大扫描长度
扫描速度 0.1
Z平台范围
zui大样品高度
手动旋转平台范围 360度
手动倾斜平台范围 ±2度
标准样品 台阶高度标准样品(NIST认证) 100μm
系统 光学照相机视场范围 1.5 X
光学照明 软件控制暗场和亮场
电脑 Pentium IV, USB2.0联接
操作系统 Win XP
系统动力需求 90-240V,350W
空间尺寸
重量
美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造,是表面测量解决方案行业的供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。
aep Technology材料表面形貌测试测量未来。*致力于材料表面形貌及外形轮廓的测试研究,*的三维成像技术更带您进入材料表面的三维图像世界,观察表面的每一个细节,生成精密的图像数据,揭示材料表面的真实形貌。结合精密的分析测试软件,为您进行的*研究提供援助,协助您创造更多的价值。