日立磁控溅射器MC1000

日立磁控溅射器MC1000

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-07-16 14:44:45
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深圳市汐品科技有限公司

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产品简介

日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品直径:60 mm日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品高度:20 mm特点:采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件可处理较厚或较大的样品...

详细介绍

概述
产品参数

日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

  • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品直径:60 mm

  • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品高度:20 mm

特点:

  • 采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件

  • 可处理较厚或较大的样品(选配件)

  • 记忆功能可存储常用加工条件


产品参数

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