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高性能聚焦离子束系统 MI4050
面议FIB-SEM三束系统 NX2000
面议高精度实时三维分析FIB-SEM三束系统 NX9000
面议高性能FIB-SEM系统 Ethos NX5000
面议球差校正扫描透射电子显微镜 HD-2700
面议透射电子显微镜HT7800系列
面议球差场发射透射电子显微镜 HF5000
面议日立中型扫描电镜SU3800 / SU3900
面议台式显微镜 TM4000II/TM4000PlusII
面议扫描电子显微镜 FlexSEM 1000 II
面议热场式场发射扫描电镜 SU5000
面议超高分辨肖特基场发射扫描电镜 SU7000
面议日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品直径:60 mm
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品高度:20 mm
特点:
采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件