DE300美国实验室电子束蒸发真空镀膜沉积设备前开门旋转基片真空镀膜机
DE300电子束蒸发系统DE400DDE400D 热阻蒸发薄膜沉积系统
The DE400D Thermal Evaporator is assembled with multiple thermal evaporation source, the substrate is mounting onDE400D EBEAMDE400D 电子束蒸发真空镀膜仪镀膜系统
The DE400D Electron Beam Evaporator is assembled with one e-beam source, the substrate is mounting on the topDE400 电子束蒸发真空镀膜系统镀膜机
DE400电子束蒸发仪配置一个电子束蒸发源,基片架装于腔体侧面水平转动的轴上,基片可以改变镀膜角度 参考价面议DE350 Sputter 二氧化硅溅射系统溅射镀膜机
前开门溅射腔体DE500 Sputter 磁控溅射系统溅射镀膜机
DE500磁控溅射仪主要包括溅射腔体,4个溅射源和一个样品台可装载并溅射zui大六英寸样品,系统极限真空度10-8托,可用于DE600 SPUTTER美国高校实验室DE600 Sputter 磁控溅射系统
德仪科技有限公司专业进口美国磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发和脉冲激光真空薄膜沉积设备,以及磁控溅射源/电源、电子束蒸发源、溅射靶材和蒸发材料等。十几年来,凭着的品质,*的技术和周到的技术服务,德仪公司的产品为中国的高校、科研院所及企业的薄膜沉积工作提供了有力的支持。DE300 E-BEAM美国实验室DE300 电子束蒸发真空镀膜仪
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The DE400 Electron Beam Evaporator is assembled with one e-beam source, the substrate is mounting on the horizontal axial on the side of chamber for the substrate polar to change the deposition angle 参考价面议DE400D E-BEAM美国实验室DE400D 电子束蒸发真空镀膜仪
The DE400D Electron Beam Evaporator is assembled with one e-beam source, the substrate is mounting on the topDE500 E-BEAM美国物理化学实验室DE500 电子束蒸发真空镀膜仪
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