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DE400D 热阻蒸发薄膜沉积系统
面议DE400D 电子束蒸发真空镀膜仪镀膜系统
面议DE400 电子束蒸发真空镀膜系统镀膜机
面议DE350 Sputter 二氧化硅溅射系统溅射镀膜机
面议DE500 Sputter 磁控溅射系统溅射镀膜机
面议美国高校实验室DE600 Sputter 磁控溅射系统
面议美国实验室DE300 电子束蒸发真空镀膜仪
面议美国实验室DE400 电子束蒸发真空镀膜仪
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面议美国半导体实验室DE600 电子束蒸发真空镀膜仪
面议美国材料实验室DE300热阻蒸发薄膜沉积系统
面议DE300电子束蒸发系统
LOAD LOCK预真空进样室(可选)
· 前开门蒸发腔体
· 冷凝泵和干泵
· 多坩埚位旋转电子枪
· zui大6”基片
· 基片旋转
· 基片偏压(可选)
· 离子源清洗基片(可选)
· 基片加热1000度(可选)
· 晶振沉积速率及膜厚控制
· 系统手动或自动控制
· 良好的薄膜均匀性和重复性
· 可沉积金属、半导体和绝缘材料
· 可沉积多层膜
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DE TECHNOLOGY LIMITED
德仪科技有限公司
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德仪科技有限公司专业进口美国磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发和脉冲激光真空薄膜沉积设备,以及磁控溅射源/电源、电子束蒸发源、溅射靶材和蒸发材料、阀门、真空计和流量计、真空密封穿导件等各种真空部件。十几年来,凭着的品质,*的技术和周到的技术服务,德仪公司的产品为中国的高校、科研院所及企业的薄膜沉积工作提供了有力的支持!
我们期待为您提供您使用的真空薄膜沉积设备和部件!
主要产品:
Sputter 磁控溅射薄膜沉积系统
E-Beam 电子束蒸发薄膜沉积系统
Thermal 热阻蒸发薄膜沉积系统
PLD 脉冲激光镀膜系统
Sputter Sources 磁控溅射阴极
DC/RF Power Supply 直流/射频电源
E-Beam Sources 电子束蒸发源
Thermal EVP Sources 热蒸发源
Deposition Materials 溅射靶材和蒸发镀膜材料
Sample Manipulator 样品台
Feedthroughs 电子穿导器件
Vacuum Valves 真空阀门
Vacuum Components 真空配件
的品质、优质的服务是我们的宗旨!