产品简介

适用于1Xnm级开发以及22nm级量产流程的测长SEM CG5000CG5000革新了运送类系统，并通过对电子光学技术及图像处理技术的改良，实现了有史注1）的分辨率，处理能力，测长再现性。并且该系统还强化了自动校准功能，提供了*稳定的运行率。另外，CG5000采用新测长技术及应用，可应用于使用新流程/新材料时所面临的测长课题，也可全面适用于1Xnm级设备的开发。（注1）自1984年日立的FEB测长装置S-6000问世以来，公司内部设备相比较而言

详细介绍

高分辨率FEB测长仪器 CG5000 (HITACHI CD-SEM)

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适用于1Xnm级开发以及22nm级量产流程的测长SEM CG5000

CG5000革新了运送类系统，并通过对电子光学技术及图像处理技术的改良，实现了有史注1）的分辨率，处理能力，测长再现性。并且该系统还强化了自动校准功能，提供了*稳定的运行率。
另外，CG5000采用新测长技术及应用，可应用于使用新流程/新材料时所面临的测长课题，也可全面适用于1Xnm级设备的开发。
（注1）自1984年日立的FEB测长装置S-6000问世以来，公司内部设备相比较而言

特点

高生产性

此装置革新了运送机器的结构构成（包括装、卸部件以及平台速度和停止精度的提高），实现AF的高速化，通过可变像素实现测长区域的化，从而缩短MAM时间，与以往相比，提高了约40%的处理能力。

高分辨率

此装置通过改良电子光学技术及图像处理技术（降噪，改善边缘锐度，图像内部暗部强调），改善了Image Sharpness。

*稳定性

再现性
此装置通过电子光学系统的稳定化，以及增加计量类型，可以实现测长区域的可设定性的可变像素，达到较高的再现性。
匹配
此装置使用平台上的样品，通过开发的多种自动校准功能，实现了*稳定的匹配性能。
特别是显著改善了CG5000同一型号间的机型差异，实现了生产线管理的稳定化。

关联产品

基于设计数据的计量系统