日本理学连续波长色散X射线荧光光谱仪ZSX Primus 400-华普通用_日本理学波长色散XRF-深圳华普通用科技有限公司手机版

详细介绍

连续波长色散X射线荧光光谱仪

Rigaku 的 ZSX Primus 400 连续波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 光谱仪专为处理非常大或重的样品而设计。该系统可接受直径为 400 毫米、厚度为 50 毫米和质量为 30 千克的样品，非常适合分析溅射靶材、磁盘，或用于多层薄膜计量或大型样品的元素分析。

优点

带有定制样品适配器系统的 XRF,适应特定样品分析需求的多功能性，可使用可选适配器插件适应各种样品尺寸和形状。凭借可变测量点（直径 30 毫米至 0.5 毫米，具有 5 步自动选择）和具有多点测量的映射功能以检查样品均匀性。

具有可用相机和特殊照明的 XRF,可选的实时摄像头允许在软件中查看分析区域。

仍保留了传统仪器的所有分析能力。

安全性

采用上照射设计,样品室可简单移出，再不用担心污染光路，清理麻烦和增加清理时间等问题。

应用领域

固体、液体、粉末、合金和薄膜的元素分析:

溅射靶材组成.

隔离膜：SiO₂、BPSG、PSG、AsSG、Si₃N₄、SiOF、SiON等。

高 k 和铁电介质薄膜：PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx

金属薄膜：Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。

电极膜：掺杂多晶硅（掺杂剂：B、N、O、P、As）、非晶硅、WSix、Pt等。

其他掺杂薄膜（As、P）、困惰性气体（Ne、Ar、Kr等）、C（DLC）

铁电薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR；PCM、GST、GeTe

焊料凸点成分：SnAg、SnAgCuNi

MEMS：ZnO、AlN、PZT的厚度和成分

SAW器件工艺：AlN、ZnO、ZnS、SiO 2（压电薄膜）的厚度和成分；Al、AlCu、AlSc、AlTi（电极膜）

■ 技术参数

大样本分析： 400 毫米（直径）， 50 毫米（厚度），高达 30 千克（质量）

样品适配器系统，适用于各种样本量

测量点：30 毫米至 0.5 毫米直径，5步自动选择

映射能力，允许多点测量

样品视图相机（可选）

分析范围：Be - U

元素范围：ppm 至 %

厚度范围：sub Å 至 mm

衍射干扰抑制（可选）：单晶衬底的准确结果

符合行业标准：SEMI、CE标志

占地面积小，以前型号的 50% 占地面积

产品简介

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