用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜

灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能

将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。

Sigma 300 性价比高。Sigma 500 装配有的背散射几何探测器，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得精准可重复的分析结果。

特点

1: 用于清晰成像的灵活探测

· 利用探测术为您的需求定制 Sigma，表征所有样品。

· 利用 in-lens 双探测器获取形貌和成份信息。

· 利用新一代的二次探测器，获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用 Sigma 创新的 C2D 和 可变压力探测器，在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。

2: 自动化加速工作流程

· 4步工作流程让您控制 Sigma 的所有功能。在多用户环境中，从快速成像和节省培训首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。

· 首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。

· 接下来对样品感兴趣的区域进行优化并自动采集图像。最后使用工作流程的步，将结果可视化。

3:高级分析型显微镜

· 将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 的背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。

· 在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。

· 获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。