离子抛光技术通常采用惰性气体 氩，通过将氩气离子化后，在电场 加速作用下轰击到样品表面，利用 动量转移的方式进行可控速率条件下，物理溅射轰击的方式对样品表面进行精细抛光处理，满足扫描电 镜/EBSD等表面敏感分析技术制样需求子抛光技术通常采用惰性气体 氩，通过将氩气离子化后，在电场 加速作用下轰击到样品表面，利用动量转移的方式进行可控速率条件 下，物理溅射轰击的方式对样品表 面进行精细抛光处理，满足扫描电镜/EBSD等表面敏感分析技术制样需求。

• 两支独立可调电磁聚焦离子枪 

• 同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复) 

• 超宽加速电压范围：100eV到10kV，不同加速电压下， 离子束束斑均保持最细束斑状态 

• 每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测 

• 采用可调节10英寸触屏控制系统，人机界面友好，操作 简洁 

• 配备横截面切割装载及定位工具 

• 配备磁编码器，带有样品测厚功能，自动匹配抛 光位置，保证的抛光质量和效率 

• 抛光角度范围：0°到 +10°连续可调 

• 具备原位实时观察及记录抛光过程功能 

• 样品可360°连续旋转或摇摆，离子束自动避让样品夹 

• 可通过时间或温度自动停止 

• 可选液氮冷台配置，去除热效应对样品的损伤 

• 可选真空或惰性气体转移装置，隔绝样品与水氧接触