ELPHY MultiBeam、Elphy Qu-图形发生器_图形发生器-北京汇德信科技有限公司手机版

详细介绍

ELPHY MultiBeam 图形发生器将在多技术纳米加工中的全新进展，和在优异的电子束曝光性能基础上升级出的三维离子束加工相结合，ELPHY MultiBeam在一种分析型的FIB-SEM双束系统上实现了真正的光刻加工能力。
ELPHY Plus 图形发生器更多地被用于场扫描电镜FE SEM，聚焦离子束系统FIB或SEM-FIB双束系统上，是一种*的解决方案。它硬件性能优异，在高速度直写过程中，电子信号质量更好。
ELPHY Quantum 图形发生器是一种被广泛采用的解决方案，可用于您的扫描电镜SEM和聚焦离子束系统FIB上。它性能可靠，功能齐全，且经济实惠。
紧凑的激光干涉工作台是由Raith自己研制生产的，它帮助克服了扫描电镜用于光刻的局限性，如对于高级应用扫描电镜无法实现拼接和精确定位。

您的扫描电镜和聚焦离子束系统上配备了我们的的电子束光刻图形发生器，即使在高速直写时，技术性能和稳定性都非常棒。我们的技术支持工程师团队将为您提供专业的培训，解决技术问题。如果您有任何问题，我们将十分乐意帮助您，为您提供进一步的信息和咨询。

在80年代末，Raith提供了集成到SEM和FIB系统上的一套商业机器。现在，在科研领域，上百套的SEM和FIB系统上集成了我们的图形发生器，具备了纳米图型化的能力。

Raith的ELPHY图形发生器是非常灵活的，且在可承受的价格上提供了良好的性能。Raith建立了世界范围久经考验的服务体系，为您更好地使用ELPHY图形发生器提供了技术保障。