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MRC943真空磁控镀膜机
MRC943采用*的卧式结构设计及特殊结构的阴极，可实现高溅射，高均匀性及高靶材有效使用率，适合从研发应用到大批量生产，可沉积介质膜、金属膜等材料，主要用于集成电路制造、平板显示器、LOW-E玻璃、ITO、TFT、光刻掩膜版、通讯网络、化合物半导体器件、射频功率器件和光电子器件等。 参考价面议 -
MRC603真空镀膜机
MRC603采用*的立式结构设计及特殊结构的阴极，可实现高溅射，膜厚均匀性和高靶材有效使用率，从研发应用到大批量生产，可沉积介质膜、金属膜等，主要用于集成电路制造、平板显示器、光刻掩膜版、通讯网络、化合物半导体器件、射频功率器件和光电子器件等。 参考价面议 -
高真空蒸发镀膜机+
使用领域
1、半导体：金属化
2、TFT：金属导线
3、微结构：金属化
5、设备特点
1、高配置
2、高精度
3、高品质 参考价面议 -
MRC643MRC643真空镀膜机
设备名称：MRC643真空溅射镀膜机
设备品牌：美国MRC
设备规格：MRC643
设备介绍：
MRC643采用*的立式结构设计及特殊结构的阴极，可实现高溅射，膜厚均匀性和高靶材有效使用率，从研发应用到大批量生产，可沉积介质膜、金属膜等，主要用于集成电路制造、平板显示器、光刻掩膜版、通讯网络、化合物半导体器件、射频功率器件和光电子器件等。
本系统可分为预真空室、溅射区域、RF离子清洗，预真空室具 参考价面议