产品介绍：P-5 X铝质腔体等离子清洗机

P-50X铝质腔体等离子清洗机具有P-5等离子体表面改性处理仪所有功能，但它具有更大的铝质腔体：203毫米宽x  203毫米深D X 102毫米高，为专门等离子处理较大工件设计。铝质腔体等离子清洗机专门用于小型生产企业、研发实验室、检测机构和科研院校。

铝质腔体等离子清洗机纵览

该铝质腔体等离子清洗机专门用于小型生产企业、研发实验室、检测机构和科研院校。铝质腔体等离子清洗机采用了防暴式203毫米宽x  203毫米深D X 102毫米高矩形铝合金真空舱，并设置直接供电的射频（RF）电极。 应用范围包括医疗设备、太阳能电池、印刷电路板、连接器、微机电系统（MEMS）、纳米技术、晶圆级封装、以及许多其他相关的半导体工艺。

铝质腔体等离子清洗机特点

正如所有铝质腔体等离子清洗机，P-X5采用电容耦合（CCP）平行电极板设计，从而zui有效的产生等离子体。

与传统玻璃/石英圆筒舱不同的是，这些竞争设备不能穿透真空舱，因此被限制只能使用感应耦合的RF线圈缠在腔室的外部。 这是设置一种低效率方式，导致输入功率损失及相当低的蚀刻/清洁去除速率。

P-5X铝质腔体等离子清洗机是由美国制造的部件组装而成，我们提供的铝质腔体等离子清洗机客户服务和支持。

铝质腔体等离子清洗机规格

标准铝质腔体等离子清洗机配置
铝合金真空舱尺寸：203毫米宽x  203毫米深D X 102毫米高
电极设置：单套 254毫米 X 127毫米 水平电极
射频电源：125瓦@ 50 kHz 射频电源
工艺气体控制：精密针形阀流量控制0-25 CC /分钟
真空监测系统：皮拉尼真空计0-1托
真空系统：5的CFM真空泵（可与氧气等活性气体适配）
工艺存储：单处理顺序

可选配铝质腔体等离子清洗机配置
射频电源：100W@13.56MHz射频电源和自动匹配网络
灯条
质量流量控制器（MFC）