高温热处理加热炉，由日本米仓株式会社研发制造。加热炉采用红外集光加热方式，通过收集光源红外辐射，聚焦热量至试样处（均温空间）对加热对象加热。该加热炉加热温度1500℃，可对半导体材料进行热处理。大的加热空间，也使得大试样（70mm直径）可以被直接加热并观察，而相对普通热处理炉子的小体积，又节省了空间，可以方便的安装/操作。

★ 洁净观察：观察炉采用红外集光方式加热，即光学加热，六光源急速加热，且光源不会对试样造成污染。加热温度1500℃；

★ 加热速率高：高功率光源、高效率反射集光、体积小三个条件决定了可实现急速加热冷却、立体加热效果、受热均匀，热台加热速度高达1500℃/min；

★ 体积小：与普通热处理炉相比，IR-HP2体积小，节省空间。与以往机体体积大、设置场所受限制的情况相比，小型化的机体可在各种环境中使用，可方便实地安装/操作；

★ 超大加热空间：加热空间大，可以实现大试样（70mm直径）的加热以及观察；

★ 温度控制精度高；

★ 多氛围：可以实现真空、大气、惰性气体和还原性气体等多种氛围环境；

★ 高真空度：真空度可以达到数Pa（由真空泵决定）；

★ 清晰观察：耐高温石英玻璃，自动吹扫，防止挥发物的附着、保持始终清晰的观察效果；

★ 拓展应用：可配备差热、拉伸、压缩、三点弯曲等功能，客户可以根据需求改造应用。

2、温度控制器。

1、水冷循环器；

2、真空泵；

3、气体净化装置。