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WS-650Mz-23NPPB美国Laurell高精度匀胶旋涂仪
美国Laurell高精度匀胶机拥有高性能驱动马达，具有稳定的转速和快速的启动，可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性；多功能控制器，操作简单；多种托盘解决方案；拥有CDA/N2 气体流保护技术。广泛应用于半导体芯片制造、钙钛矿太阳能电池、有机光伏、微流控芯片、MEMS微纳加工、高分子材料以及石墨烯和二维材料领域。 参考价面议 -
真空快速退火炉AS-One
真空快速退火炉AS-One是一种通用的RTP系统，可用于开发快速热退火和快速热CVD工艺。 参考价面议 -
OS-E511紫外臭氧清洗机
我们所提供的紫外臭氧清洗机是一种简单，经济，高效的材料表面清洗设备。只需把样品放置到托盘上，关上舱门，设置时间，按下运行按钮，就可以在几分钟内，快速去除大多数无机基材上的有机污染物，为您提供超洁净的表面。通过使用高功率紫外线光源产生臭氧，将污染物分解成挥发性化合物。这些挥发性化合物从表面蒸发而*迹。这种方法可产生接近原子级的清洁表面并且不会损坏样品。 参考价面议 -
PSD系列紫外臭氧清洗机
PSD系列紫外臭氧清洗机
PSD系列产品是数字控制的台式清洗设备，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。设备配备一个带反射罩的高强度UV格栅灯盘, 和可调节高度的样品台，用于优化样品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系统具有进出气接口。该系统由一个方便的预设置控制器控制，非常容易操作。 参考价面议 -
WS-1000Laurell 湿法刻蚀系统
自1985年起，Laurell公司向遍布的生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案，目前，有超过15000套系统正在安全运行。 参考价面议 -
V150-15Wabash 压铸模压机
WABASH公司开拓了积木式设计的理念用在具有单元组合可变元件和塑化筒和柱塞可多尺寸选择的*压机上。 参考价面议 -
PDC-32G-2Harrick小型台式等离子清洗机
Harrick Plasma公司的等离子清洗机是一种小型化、超清洗设备。Harrick小型台式等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。Harrick小型台式等离子清洗机外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。Harrick小型台式等离子清洗机短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉. 参考价面议 -
PDC-002-HPHarrick 等离子清洗机
Harrick Plasma公司的等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。 参考价面议 -
PDC-32G-2Harrick等离子清洗器
Harrick Plasma公司的等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。 参考价面议 -
SCE-1414Anatech 铝制等离子表面处理机
MYCRO的SCE系列铝制反应舱等离子体系统是该领域的产品。我们的等离子刻蚀机无论是做研发还是大规模生产，总有一款SCE系列系统可以满足需要。就设备设计、质量或是交货灵活性、经济型等离子体系统等方面而言，没有公司与之相提并论。 参考价面议 -
SCE-604Anatech等离子灰化机
MYCRO的SCE-604系列感应耦合等离子体(ICP)等离子体系统是用于等离子体灰化工艺的zui有效仪器。适用设备如：SCE-104, 106, 108。等体灰化1-4个样本的系统(4个独立的反应舱)，每个石英反应舱是独立封闭，从而避免交叉污染。 参考价面议 -
PDC-FMG-2Harrick 气体流量控制器
主要应用于处理气体的精密控制、在等离子清洗过程中气体流混合和真空舱内压力监控。 参考价面议