Flex-Axiom型多功能原子力显微镜

材料研究用的多功能AFM

●用于材料研发的多功能原子力显微镜

●模块化概念可以刚好符合您的需求

●适用于任何尺寸的样品

几百个研究用户，多方面应用实例

Flex-Axiom是您可信赖的工具，不管是在表面形貌还是计量成像上，不管在大气中还是液体环境中。 当然Flex-Axiom不仅仅可以用于表面形貌测量，还可以进行的机械，电学或磁性能表征。该系统也成功地用于局部样品纳米加工。

高精确度且优异的性能满足您研发上的需求

Flex-Axiom使用一个极其线性的电磁扫描头进行XY轴运动。该扫描头实现了在整个扫描范围内的平均线性偏差小于0.1％，属于AFM市场上的顶配。 Z轴采用压电驱动，带有位置传感器，可实现闭环操作。一个灵敏的悬臂检测系统可以很好地测量到MHz频率范围。扫描头连接到具有数字反馈和2个双通道锁定放大器的全功能24位C3000控制器上。

Flex-Axiom 成像模式

以下描述为仪器所具备的模式。某些模式可能需要其他组件或软件选项。详情请浏览产品手册或直接联系我们。

显示钛酸锶阶梯的形貌图，图像尺寸1.1μm。

截面轮廓和高度分布

样品清晰地显示了STO典型的层结构。这里，这些层并不是光滑的，显出出大约125pm的残余粗糙度（RMS）。这是由于在制备该STO样品期间的非理想终止过程造成的。中间曲线图显示了左图所示图像的轮廓线，从图像区域的左上角延伸到右下角。该轮廓还清晰地显示了样品的层状结构，并揭示了层高度约.4 Å。同样，在右侧曲线图中，左图的高度分布直方图清晰地显示了大约.4 Å-即样品的不同层之间的峰的间距。

CVD生长的二硫化钼单层膜的形貌和KPFM

在本应用中，使用Flex-Axiom的开尔文探针力显微 (KPFM)对通过化学气相沉积（CVD）生长的单层MoS2进行成像，以研究单晶上的接触电位差变化。 单层MoS 2是通过化学气相沉积在硅基体上生长的 (样品提供: 伊利诺伊大学 – Urbana-Champlain).单层膜表面接触电位信号的不均匀性可以反映掺杂分布和其他表面缺陷。

单层MoS2光学显微图

a)单层MoS2AFM形貌图 轮廓的位置是红线标注的地方
b) 单层膜上的高度（上图）和KPFM电压（下图）分布

使用Flex-Axiom测量显示的单层MoS2的台阶高度为0.6 nm。并行KPFM测量显示单层膜和SiO 2基体之间的接触电位差为650 mV。

3D AFM形貌叠加MoS2

在下面的实验中，使用 Flex-Axiom 系统一次性记录了KPFM和形貌数据。 也见相关的

不锈钢的KPFM 图叠加在形貌图上
扫描大小: 80 µm x 80 µm
电位范围: 200 mV

形貌图本身
扫描大小: 80 µm x 80 µm
高度范围: 50 nm

相同区域的MFM图
扫描大小: 80 µm x 80 µm
相位范围: 10°