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清洗: 工艺部件的表面通过离子束的物理轰击而被清洗,也可与特定气体发生化学反应从而被清洗,清洗掉的工艺污染物转化为气相被排出。 如:去除有机污染物,去除纳米级微粒,去除氧化层
活化:工艺部件表面通过氧气或空气处理后,会在表面形成氧原子团,这样能使部件表面亲水性和表面张力提高,能使涂料和粘接剂更好的附着于上,提高其的粘合力和附着力。 如:PDMS键合,粘接前的预处理,涂装前的预处理,印刷前的预处理。
蚀刻:工艺部件表面通过特定气体达到精确溅射,表面材料被剥离,转变成气相被排出,溅射后的材料表面积增大并更易湿润,也使材料表面更粗糙化。通过改变工艺参数可使材料表面蚀刻出一定的形状。如:硅蚀刻,PTFE/PFA/FEP蚀刻,光刻胶去除。
涂层:使工艺部件表面发生等离子聚合反应,前驱单体导入等离子真空腔室后使其电离并沉积至材料表面,随即发生聚合反应,形成聚合物层。如:疏水层,亲水层,保护/阻隔层,干润滑层,疏油层。
主要技术参数 | 1.半自动控制 2.根据工艺要求不同,可设定功率、压强、气体流量等参数 3.双路工作气体,气体流量通过针型阀流量计控制 4.反应舱为高硼硅玻璃腔体,直径130mm 长300 mm ,容积约为5L 5.发生器频率40KHz功率0~200W 6.反射波自动调节 7.电极材质为铝 8.运行模式为手动 9.配套真空泵的排气能力为4m3/Hour,配有强制进气阀,国产飞越真空泵 10*配有压力传感器,可根据工艺要求设定压力值 11.外尺寸:W560mm*D600mm*H460-860mm 12.电源电压:单相AC230V 16A |