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高光谱相机
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X射线波带片
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校准标样
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XE7经济型AFM
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白光干涉仪&轮廓仪
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超光谱相机V-EOS
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AFM-Raman
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SOI芯片订制
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孔径式SNOM
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超光谱相机S-EOS
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(10μm) S140 大幅面
nanoArch S140是可以实现实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前前景的微纳加工技术之一。 参考价面议 -
(2μm) S130 大幅面
nanoArch S130是可以实现实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前前景的微纳加工技术之一。 参考价面议