等离子体刻蚀机

  产品简介：

    nanoETCH刻蚀机是英国MOORFIELD公司与英国曼彻斯特大学“诺贝尔奖”石墨烯团队共同开发的一款采用“软刻蚀”技术等离子体刻蚀机，该技术大的特色是等离子体的功率低，分辨率高，功率低可达10mV，主要用于刻蚀二维材料石墨烯等，刻蚀精度高，高重复性号，刻蚀超薄样品无污染与残留物，可避免传统刻蚀机造成样品的损伤与污染，有多篇Science 与Nature的文章里采用了该设备，是从事二维材料研究用户的理想选择。

  产品特性：

     • 对基底材料无损伤

      •  无残留污染

      •  RF输出功率低至30W

      •  RF输出功率分辨率低至30W

      • 多支持3通道MFC气体控制，含Ar，O2

     •  通过触控屏全自动进行刻蚀

     •  真空度低至<5 ×="" 10-7="">

     •  全自动压力控制

     •  可自定义刻蚀程序并具有储存功能

     •  维护简单

     •  操作及其安全，有各种安全保护装置

     •  兼容超净间

  主要技术参数：

    •  RF功率:低至30W

     •  RF功率分辨率:低至30W

     •  样品台：标准3”，大支持6”

     •  2通道MFC气体控制，Ar，O2，多支持3通道MFC气体控制

     •  压力控制分辨率：1mTorr

     •  真空度：<5 ×="" 10-7="">

  产品应用：

    •  机械剥离基体预处理，提高基体的尺寸与粘附力

    •  二维材料刻蚀: 软刻蚀技术可进行pattern刻蚀，

    •  缺陷工程与处理

  典型用户

    • the University of Exeter(UK)

    • the University of Manchester(UK)

    • ICFO – The Institute of Photonic Sciences ( Spain)

    • the University of Cambridge ａnd Nokia Research Centre (UK)

§ 典型论文：

    1, Vertical field-effect transistor based on graphene–WS2 heterostructures for flexible and transparent electronics, Georgiou, T., et al. Nature Nanotechnology, 2012.

    2, Chaotic dirac billiard in graphene quantum dots, Ponomarenko, L. A., et al. Science , 2008.

    3, Detection of individual gas molecules adsorbed on grapheme, Schedin, F., et al. Nature Materials 2007.

    4, Graphene-based mid-infrared room-temperature pyroelectric bolometers with ultrahigh temperature coefficient of resistance, Sassi, U., et al. Nature Communications, 2017.