系统利用一个宽频谱的卤素灯作为光源，反射光被特别设计的积分球收集并探测，积分球通过光纤与一个高精度光谱仪连接。不管样品表面是绒面还是抛光面，所有的反射光和散射光都会被收集测量，整体光谱反射率的值及变动情况可以用来管控硅片的制绒工艺，同时可以测量出镀膜硅片的总的反射损失。通过标准逻辑运算，可计算出在不同颜色空间的颜色值，如Lab，xyY颜色空间等。

薄膜的上表面和下表面反色光由于相位不同而发生干涉，干涉光谱的频率与膜厚是成正比的。这种现象用来计算硅片的膜厚。的计算方法是通过拟合测量光谱和薄膜理论光谱，使其吻合，计算出薄膜的实际厚度。

■ 全波段整体反射率测量
■ 任意波段zui小反射率及对应波长测量
■ 自定义单一波长反射率测量
■ 任意波段平均反射率测量
■ 镀膜膜层厚度测量
■ 色度计算
■ 集成参考校正片
■ 用户自定门限设置
■ Goog/Bad指示
■ 手动单轴测试台
■ 手动全硅片Mapping
■ 测量速度快, <0.8s /点
■ 可以提供第三方认证标片（选项）
■ 裸片和镀膜片的测量:
     -离线
     -非接触式
     -静态单点测量
■ 测量参数:
     -反射率: r（全光谱）
     -色度: c（Lab, xyY , ...）
     -膜厚 r（镀膜片）
■ 应用范围:
     -多晶（抛光、粗糙、绒化）
     -单晶（抛光、粗糙、绒化）
     -125mm×125mm / 156mm×156mm
■ 应用在所有向光制绒工艺
     -化学蚀刻（酸/碱）
     -RIE（离子反应蚀刻）
■ 操作简单
     -只需点击测量按钮，即出测量结果
     -手动单轴移动测试台，可全硅片Mapping
     -线性扫描简单

■ 测量参数: 反射率/膜厚/色度
■ 反射率范围: 0-*
■ 波长范围: 380-1070nm
■ siN膜厚: 25-120nm
■ siO膜厚: 35-169nm
■ 反射率精度: ±0.1%
■ 反射率重复性: <0.05%
■ 膜厚精度:±1nm
■ 膜厚重复性: ±0.2nm
■ 色度表达: Lab/xyY/XYZ/Lch
■ 色度精度: x,y 3 σ±0.004/Y3σ±0.5
■ 色度重复性:x,y 3 σ<0.002/Y3σ<0.2
■ 测量光斑: ~8mm
■ 测量速度: 0.8s/点
■ 硅片尺寸: 156mm×156mm/ 125mm×125mm/ 圆形或更小
■ 样品台: 310*160mm
■ 环境温度: 15-35℃
■ 湿度: <90%
■ 电源: AC100-240;50/60Hz
■ PC要求: WindoP, 2GB RAM, >100GB HDD

硅片	镀膜后