大尺寸快速退火炉(12英寸)

大尺寸快速退火炉(12英寸)

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2020-11-12 11:25:30
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上海载德半导体技术有限公司

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产品简介

快速退火炉(RTP/RTA)是半导体材料和器件常用的一款工艺设备。大尺寸快速退火炉(12英寸)可以在真空、惰性气氛、不同的工艺气体环境下使用。

详细介绍

       快速退火炉(RTP/RTA)是半导体材料和器件常用的一款工艺设备。大尺寸快速退火炉(12英寸)可以在真空、惰性气氛、不同的工艺气体环境下使用。
 

  大尺寸快速退火炉(12英寸)是一款很有特点的快速退火炉,有非常大的退火空间,适合大尺寸样品的热处理。
 

  仪器特点:
 

  -  快速热处理、快速热退火  RTP / RTA;
 

  -  可在真空、甚至于高真空环境使用;
 

  -  加热区域尺寸:300毫米 X 300毫米;
 

  -  广泛用于太阳能电池片快速退火工艺,如156mm X 156mm电池片,300mm X 300mm电池片等;
 

  参考用户:
 

  中科院上海技术物理所,*41所。
 

  上海载德半导体技术有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商,上海载德所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体*。
 

  上海载德半导体技术有限公司目前代理的主要产品包括:
 

  - 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System);
 

  - 快速退火炉(RTP);
 

  - 回流焊炉,真空烧结炉(Reflow Solder System);
 

  - 探针台(Probe Station),低温探针台(Cryogenic Probe Station);
 

  - 贴片机(Die Bonder),划片机(Scriber),球焊机/锲焊机(Wire Bonder);
 

  - 原子层沉积系统(ALD),等离子增强原子层沉积设备(PEALD);
 

  - 磁控溅射镀膜机(Sputter),电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator),热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator),脉冲激光沉积系统(PLD) ;
 

  - 低压化学气相沉积系统(LPCVD),等离子增强化学气相沉积系统(PECVD),快速热化学气相沉积系统(RTCVD);
 

  - 反应离子刻蚀机(RIE),ICP刻蚀机,等离子体刻蚀机;
 

  - 致冷机/低温恒温器(Cryostat/Cryocooler);
 

  - 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate);
 

  - 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe),光反射膜厚仪(Reflectometer);
 

  - 高温超导磁体(HTS Magnet),快速场循环核磁共振弛豫测试仪(FFC Reflexometer)。

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