脉冲激光沉积系统(PLD)
脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。 参考价面议脉冲激光沉积分子束外延系统
脉冲激光沉积分子束外延系统:分子束外延系统(MBE) GaAs、InP和GaSb外延 HgCdTe外延 GaN、InN和AlN外延 Ⅱ-Ⅵ族外延 SiGe外延 Si/金属/氧化物外延 参考价面议基质辅助脉冲激光沉积系统
基质辅助脉冲激光沉积系统标准的激光束射向靶材入射角度:60°;主腔体本底真空:P 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix. 参考价面议SKP5050开尔文探针系统
SKP5050 开尔文探针系统PECVD等离子体增强化学气相沉积设备
该PECVD等离子体增强化学气相沉积设备系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。可选用射频(RF)、空阴*密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体(ICP)源。大沉积尺寸为8英寸。 参考价面议离子束刻蚀系统
离子束刻蚀系统仪器应用:匀胶机,旋涂仪
MIDAS为匀胶机,旋涂仪(又称为旋涂仪、甩胶机、Spin Coater等)的品牌,目前用户超过1800台,在高校、研究所及半导体产业享有很高的声誉,高性价比。 参考价面议UF-CPC 凝聚核颗粒计数器
UF-CPC 凝聚核颗粒计数器模块化设计,方便更换光学监测器,以适应不同浓度的颗粒物测量。 同时,也方便系统清洁和更换泵。 参考价面议金属有机化学气相沉积系统(MOCVD)
我们提供了一套完整的金属有机化学气相沉积系统(MOCVD),主要产品包括台式研发型、中试型和生产型。其反应器的设计可以根据工艺的需要很容易提升到满足大直径晶片生产的需要。我们也能为客户设计以满足客户特殊工艺和应用的需要。 参考价面议Inas吸入药物/喷雾气溶胶粒径谱仪
吸入药物/喷雾气溶胶粒径谱仪是德国Palas公司*的用于测量气溶胶颗粒的仪器。通过与个人电脑相连可以自动完成对气体的取样,计数,分析的在线检测。可以检测出颗粒浓度,颗粒粒径分布,个数浓度,质量浓度(假定颗粒密度已知道的话),用于过滤器上下游在线检测时,还可以计算出各颗粒范围内的过滤效率。 参考价面议匀胶机
匀胶机有许多名称:甩胶机、涂胶机、涂层机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂膜仪等, 主要应用于溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作。 参考价面议Smoke Air Generator烟雾发生器
此系统致力于烟雾的研究,广泛应用在各国*的烟火研究分析实验室,专业分析高标准滤材。 某些特殊行业需要超高洁净度,对滤材要求高,例如核研究,制药车间,半导体超净室等。此烟雾发生器产生的烟雾满足分析滤材标准。 参考价面议