线性温控烤胶机简述：
 

Hotplate 100型烤胶机是美国凯美特科技公司开发的新一代产品，采用高精度温度传感器，控制系统基于windows，操作界面采用更直观方便的触摸屏方式.线性温控烤胶机系统采用*的温度预估算法，使加热过程中的温度过冲现象大幅度减小，并具备高精度的线性升温/冷却功能。

常和匀胶机配套使用，适用于半导体、制版及表面涂覆等工艺，可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。
 

线性温控烤胶机温度特性 （温度范围：室温~300℃）
 

    线性温控烤胶机在升温时，温度越高，和环境温差越大，其自然散热就越快，所以随着温度的升高，其升温速度是自然下降的。相反，在冷却时，温度越高，冷却速度越快。

典型的大升温速度：21℃/分   @    100℃

                    18℃/分   @    150℃

                    15℃/分   @    200℃

                    12℃/分   @    250℃

                     9℃/分   @    290℃

典型的大冷却速度： 2℃/分   @    100℃

                     4℃/分   @    150℃

                     6℃/分   @    200℃

                     9℃/分   @    250℃

                    11℃/分   @    290℃
 

以上数据是在20℃室温的情况下，环境温度对烤胶机的升温速度和冷却速度有一定的影响，同时，大热容的样品也会降低升温/冷却速率。

1、为避免温度过冲的现象，在温度接近设定目标温度时，系统会降低速率使温度逐步逼近目标温度，通常这个过程会多花1-2分钟的时间。

2、设定速率大于大速度时，线性模式和自然模式的效果相同。