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上海伯东Atonarp 推出半导体用质谱分析仪 Aston™

时间:2022-12-23      阅读:134

近期,我司上海伯东德国 Pfeiffer推出半导体用质谱分析仪 Aston™,上海伯东日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 专为半导体生产而设计, 实现工艺过程控制, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种传统工具, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断并在一系列应用中提供的控制水平, 适用于光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.
半导体过程控制在线质谱仪 Aston™

Aston™ 质谱分析仪耐受腐蚀性气体和气化污染物冷凝液, 能够在半导体生产遇到的恶劣工况下可靠运行, 与传统质量分析仪相比, 使用 Aston™ 的维修间隔更长. 它包括自清洁功能, 可消除由于某些工艺中存在的冷凝物沉积而导致的污垢积累.


Aston™ 特性

实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝

半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据

采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用

可与大批量生产工具*集成


Atonarp  Aston™ 技术参数

类型

Impact-300

Impact-300DP

Plasma-200

Plasma-200DP

Plasma-300

Plasma-300DP

型号

AST3007

AST3006

AST3005

AST3004

AST3003

AST3002

质量分离

四级杆

真空系统

分子泵

分子泵

隔膜泵

分子泵

分子泵

隔膜泵

分子泵

分子泵

隔膜泵

检测器

FC /SEM

质量范围

2-285

2-220

2-285

分辨率

0.8±0.2

检测限

0.1 PPM

工作温度

15-35“℃

功率

350 W

重量

15 kg

尺寸

299 x 218 x 331 LxWxH(mm)

400 x 240 x 325 LxWxH(mm)


Aston™ 质谱分析仪 CVD 典型应用: Dry pump 干泵排气在线监测,诊断

在恶劣的 CVD 环境中, Aston™ 利用可操作的数据预测和预防因 PV-CVD 干泵引起的灾难性故障, 能够对破坏性腐蚀或沉积进行预测建模, 优化氮气吹扫成本.

适用场景: 多个腔室连接到1个干泵, 高浓度的电介质会导致灾难性的泵故障 (一次损失 10-100 片的晶圆)



Aston CVD 典型应用: Dry pump 干泵排气在线监测,诊断

通过使用上海伯东 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 可以提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 此款质谱仪可以在新工艺腔室的组装过程中进行安装, 也可将其加装到已运行的现有腔室, 可在短时间内实现晶圆更高产量!


若您需要进一步的了解 Atonarp  Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生


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