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网格阵列位于50mm×50mm，1.5mm厚度的玻璃基底上（玻璃基底上真空溅射低反射率的铬制成），100µm、250µm、500µm、1000µm和2000µm网格间距，25×25阵列。
网格分布用于决定成像系统的畸变。理想情况下，网格的水平和竖直线是垂直的，畸变图像会在线上显示扭曲，这种图像可以用于修正畸变。
订购信息：
货号 | 产品描述 | 规格 |
R1 | Grids with line pitch of 2000微米，间距2000微米 | 个 |
R2 | Grids with line pitch of 1000微米，间距1000微米 | 个 |
R3 | Grids with line pitch of 500微米 | 个 |
R4 | Grids with line pitch of 250微米 | 个 |
R10 | Grids with line pitch of 100微米 | 个 |
