不同观测场景下高温原位加热设备选型与技术适配

面对高温工况下材料相变、晶粒生长、结构形变等动态变化，想要高准度捕捉瞬时微观行为，华测仪器 Huace 1400-XY、Huace 1500-XY 高温原位光学加热台提供原位观测方案，凭借准确控温、灵活位移、气氛适配与光路设计，实现高温下材料全流程动态表征。

Huace 1400-XY 反射式高温原位加热台

1、温区覆盖室温至 1400℃，控温精度达 ±0.1℃，温控稳定；升温速率 1~150℃/min 可调，支持多段程序升降温，可模拟多种高温工况；

2、采用陶瓷加热体搭配高温阻丝，热场均匀稳定；搭载 XY 双向可调载样台，高温状态下可实时调整观测位置，准确锁定观测区域；

3、支持真空、惰性气氛使用，可防止样品高温氧化变质，应用于陶瓷、半导体、合金材料等领域，可观测高温烧结、热形变、界面反应及表面结构演变；

Huace 1500-XY 透射式高温原位加热台

1、机身小巧，用于高温透射显微观测，搭建原位试验系统。 温度可达 1500℃，搭载自研自散热结构，高温持续运行无需外置水冷，安装使用更便捷；

2、配备透射光路，可穿透透明、半透明样品，清晰观测内部晶界、相界、熔融状态、晶格变化等微观特征；

3、内置 XY 位移结构，高温下可切换观测点位，适配光学玻璃、高温晶体、熔盐等试样，助力高温相变研究、内部结构分析与熔融特性测试；

两款设备兼顾反射与透射观测需求，宽温域、工况适配性强，准确记录高温环境下材料每一处细微变化，为新材料研发、高温工艺优化与机理研究提供可靠测试方案。