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TFMS-LD 反射光谱薄膜测厚仪

供应商:
合肥科晶材料技术有限公司
企业类型:
生产厂家

产品简介

TFMS-LD是一款反射光谱薄膜测厚仪,可快速精确地测量透明或半透明薄膜的厚度,其测量膜厚范围为15nm-50um,仪器所发出测试光的波长范围为400nm-1100nm。此款测试系统理论基础为镜面反射率,并且采用光纤反射探头。仪器尺寸小巧,方便于在实验室中摆放和使用。

详细信息

 TFMS-LD是一款反射光谱薄膜测厚仪,可快速精确地测量透明或半透明薄膜的厚度,其测量膜厚范围为15nm-50um,仪器所发出测试光的波长范围为400nm-1100nm。此款测试系统理论基础为镜面反射率,并且采用光纤反射探头。仪器尺寸小巧,方便于在实验室中摆放和使用。

技术参数

测量膜厚范围

15nm-50um

光谱波长

400 nm - 1100 nm

主要测量透明或半透明薄膜厚度

  • 氧化物
  • 氮化物
  • 光刻胶
  • 半导体(硅,单晶硅,多晶硅等)
  • 半导体化合物(ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等)
  • 硬涂层(碳化硅,类金刚石炭)
  • 聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
  • 金属膜(点击图片可查看详细资料)
  •   

特点

  • 测量和数据分析同时进行,可测量单层膜,多层膜,无基底和非均匀膜
  • 包含了500多种材料的光学常数,新材料参数也可很容易地添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
  • 体积较小,方便摆放和操作
  • 可测量薄膜厚度,材料光学常数和表面粗糙度
  • 使用电脑操作,界面中点击,即可进行测量和分析

精度

0.01nm或0.01%

准确度

0.2%或1nm

稳定性

0.02nm或0.02%

光斑尺寸

标准3mm,可以小至3um

要求样品大小

大于1mm

分光仪/检测器

  • 400 - 1100 nm 波长范围
  • 光谱分辨率: < 1 nm
  • 电源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

光源

  • 5W的钨卤素灯
  • 色温:2800K
  • 使用寿命:1000小时

反射探针

  • 光学纤维探针,400um纤维芯
  • 配有分光仪和光源支架

载样台

测量时用于放置测量的样品
 

通讯接口

USB接口,方便与电脑对接

TFCompanion软件

  • 强大的数据库包含两500多种材料的光学常数(n:折射率,K:消失系数)
  • 误差分析和模拟系统,保证在不同环境下对样品测量的准确性
  • 可分析简单和复杂的膜系

设备尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg

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