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　　技术参数：
　　
　　该分析仪是全自动运行，能进行真空体积测定，气体物理和化学吸附测定的系统，它具有高气流通过率，费用低廉，能在测定一个样品的同时，独立地对另外两个样品进行脱气操作。该系统可以用于全面地测定具有微孔的物质（如沸石，活性炭等）的特性。该系统产生所需要的吸附和脱附数据，用于确定并给出所有的表面积和如下面条目中所列的有关参数。该系统能为化学吸附做就地的样品准备，并自动进行化学吸附测定，表达样品的催化特性。
　　
　　1. 等温线：用户可以在的目标压力选择数据点的个数；

　　
　　2. BET比表面积：单点，多点，斜率，截取，常数 "C" ，相关系数；
　　
　　朗莫尔表面积：多点，斜率，截取，相关系数；
　　
　　3. BJH 孔径分布：体积，面积，吸附，脱附，累积，推导（线性化和取对数），插值；
　　
　　4. Dollimore-Heal 孔径分布：体积，面积，吸附，脱附，累积，推导：（线性化和取对数）；
　　
　　5. Dubinin-Radushkevich 微孔面积：斜率，截取，相关系数，平均孔径，微孔体积，平均吸附能；
　　
　　6. 总孔体积：由用户选取可选的 P/P0；
　　
　　7. 平均孔径：半径，直径；
　　
　　8. 统计壁厚（t-曲线）：de Boer， Halsey或碳黑模型；
　　
　　9. t法：微孔表面积，中孔表面积，微孔体积，相关系数；
　　
　　10. 微孔孔径分布： MP, HK, SF, DA, 密度函数理论（NLDFT )；
　　
　　11. 分形维数：Neimark-Kiselev (NK), Frenkel-Halsey-Hill (FHH)；
　　
　　12． 化学吸附等温曲线：合成的（*个），弱吸附的（可重复的）和强吸附的（差值）等温曲线和轮廓；
　　
　　13． 单层覆盖的外推：Langmuir, Tempkin, Freundlich,分类；
　　
　　14． 对于活动性（金属）表面，用户可以选择化学计量法和金属表面；
　　
　　15． 金属分散度（百分比）；
　　
　　16． 平均晶粒尺寸（对于粒状物质）；
　　
　　17． 吸附热（总体的和分别的）；
　　
　　18． TPD/TPR/TPO (选件，与质谱或ＴＣＤ连接)。
　　
　　主要特点：
　　
　　-流动态程序升温，进行TPD/TPR/DPO测量，脉冲滴定法分析催化剂特性（活化面积，金属分散作用等）；
　　
　　-化学吸附等温线的测量及分析单分子层覆盖量，活性（金属）表面分散度，平均微晶粒尺寸，吸附热等；
　　
　　-动态程序升温与化学吸附等温线的测量无缝对接，全面表征催化剂特性；
　　
　　-表面积和孔隙度等物理吸附全分析能力， 能对分子筛、活性碳、二氧化硅等完成超低压气体吸附分析以测定其微孔分布特性及介孔孔径分布；
　　
　　-流动或真空条件下现场样品制备；
　　
　　-高温预处理炉（1100 C）和全程序化气体转换及温度爬升，具有zui大的多功能性，满足各种实验需求；
　　
　　-可与质谱联用，质谱检测器可与TCD一起同时进行TPR/TPD测定，完成催化剂活性的定性和定量分析；
　　
　　-可内置蒸汽发生器；
　　
　　-采用隔膜泵及空气冷却免维护内置分子泵，真空度达10-10mmHg。质谱检测器共享仪器真空系统*地降低了用户使用成本；
　　
　　-从真空静态分析转换至程序升温流动法TCD分析仅不到1分钟；
　　
　　-无论真空体积测量，还是流动法TCD测量模式，均在Windows 平台上进行数据采集。