日立（Hitachi）扫描电镜
产品简介
详细信息
品牌：日立（Hitachi） 型号：SU9000 产地：Japan
二次电子图象分辨率：0.4nm@30kV,1.2nm@1kV
放大倍数：220~8,000,000
仪器种类：场反射
加速电压：0.5~30kV
日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的半导体器件，高分辨成像所设计。
全新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）
用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。
采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。
品牌：日立（Hitachi） 型号：SU9000 产地：Japan
二次电子图象分辨率：0.4nm@30kV,1.2nm@1kV
放大倍数：220~8,000,000
仪器种类：场反射
加速电压：0.5~30kV
日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的半导体器件，
高分辨成像所设计。
全新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）
用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。
采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。