日立磁控溅射器MC1000
产品简介
详细信息
概述
产品参数
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品直径:60 mm
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品高度:20 mm
特点:
采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件
产品参数