仪器网

PMMA正性光刻胶

PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一种通用的聚合材料，适用于许多成像和非成像微电子系统。PMMA光刻胶是将PMMA聚合物溶解在诸如苯甲醚之类的安全溶剂中，曝光会导致聚合物链断裂。PMMA作直写式电子束的高分辨率正性光刻胶，它具有的分辨率，易于处理和出色的薄膜特性。PMMA还可用作晶圆薄化的保护涂层，粘结粘合剂和刻蚀层。

材料用途： 晶圆减薄 防护涂料 PHEMT 多层T门工艺 其他直写式电子束工艺

材质属性： 正调 电子束和X射线可成像 膜厚范围广 对大多数基材具有出色的附着力

共聚物光刻胶是基于PMMA和〜8.5％甲基丙烯酸的混合物。共聚物MMA（8.5）通常与PMMA结合使用在双层剥离抗蚀剂工艺中，该工艺需要独立控制CD尺寸和每个光刻胶层的形状。标准共聚物光刻胶是在乳酸乙酯中配制的，并且可以在很宽的膜厚范围内使用。