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TC-Wafer晶圆测温系统 真空腔体温度监控

一、【晶圆测温的重要性】

       在晶圆制造过程中，温度的均衡与控制对于保证晶体生长、薄膜沉积和离子注入等工艺的稳定性至关重要。晶圆测温技术能够实时监测晶圆表面的温度分布，确保整个晶圆上各处的温度保持一致，从而避免不均匀性引发的问题。

      TC-Wafer采用*的温度传感技术，能够以高精度测量晶圆表面温度。这对于芯片制造过程中的温度控制至关重要，有助于提高生产效率和产品质量。

系统配备了多个温度传感器，可同时监测晶圆不同位置的温度变化。这种多点监测的能力有助于发现温度梯度，优化生产过程并减少不均匀性。

二、【产品用途】

       TC-Wafer是将高精度温度传感器镶嵌在晶圆表面，对晶圆表面的温度进行实时测量。通过晶圆的测温点了解特定位置晶圆的真实温度，以及晶圆整体的温度分布，同还可以监控半导体设备控温过程中晶圆发生的温度变化，获得升温、降温以及恒温过程期间的温度温度数据，从而了解半导体设备的温度均匀度。

三、【产品特点】

- 传输通道数量可定制;

- 优异的软件功能，可用图形及颜色显示温度分布状况;

- 数据可储存调用;

- 可提供温度曲线图，方便直观的看到温度变化趋势

- 真空环境下，温度传感器保持高精度和良好的稳定性

四、【应用行业】

TC-Wafer晶圆测温系统应用于许多行业，包括快速热处理 (RTP)、快速热退火 (RTA)、曝光后烘烤 (PEB)、化学气相沉积 (CVD)、物理气相沉积 (PVD)、ION 等应用注入、太阳能电池和许多其他热驱动工艺。智测电子具有高精度温度测量与控制技术和经验，支持产品定制。

TC-Wafer晶圆测温系统 真空腔体温度监控