H/D 水解/衍生工作站
产品简介
详细信息
本工作站具有样品水解和衍生需要的功能。反应瓶架可容纳12个样品管。一个杜瓦瓶和冷凝器用于防止玷污。加热器可为4个反应瓶架提供稳定的温度控制。
温度：150℃
温度：温度读出精度±2℃
稳定时间：10分钟（从环境温度到60℃）
温度稳定性：在超过10分钟的时间范围内为±1.0℃或更高
温度重现性：±0.5ºC或更好
抽真空时间：6分钟内可达60毫托
氮气输入压力：8 psi
本工作站具有样品水解和衍生需要的功能。反应瓶架可容纳12个样品管。一个杜瓦瓶和冷凝器用于防止玷污。加热器可为4个反应瓶架提供稳定的温度控制。
温度：150℃
温度：温度读出精度±2℃
稳定时间：10分钟（从环境温度到60℃）
温度稳定性：在超过10分钟的时间范围内为±1.0℃或更高
温度重现性：±0.5ºC或更好
抽真空时间：6分钟内可达60毫托
氮气输入压力：8 psi