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实验室常用设备制样/消解设备匀胶机

WS-650Mz-23NPPB 美国Laurell高精度匀胶旋涂仪

供应商:
迈可诺技术有限公司
联系人:
叶盛 查看联系方式
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产品简介

美国Laurell高精度匀胶机拥有高性能驱动马达,具有稳定的转速和快速的启动,可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性;多功能控制器,操作简单;多种托盘解决方案;拥有CDA/N2 气体流保护技术。广泛应用于半导体芯片制造、钙钛矿太阳能电池、有机光伏、微流控芯片、MEMS微纳加工、高分子材料以及石墨烯和二维材料领域。

详细信息

钙钛矿太阳能电池/有机太阳电池制备涂膜工艺行业内的理想选择——美国Laurell高精度匀胶机/Spin Coater。自1985 年起,我们向遍布全球的生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案,全球用户超百万!近些年特别在钙钛矿太阳能电池薄膜制备领域, WS-650Mz-23NPPB这款型号匀胶机大火,在全球任何一个著名的实验室可找到!洛桑联邦理工学院(EPFLMichael Grätzel教授课题组使用的就是美国Laurell匀胶机WS-650Mz-23NPPB


匀胶机产品特点:

1、稳定的转速和快速的启动,可保证胶厚度的一致性和均匀性;

2、转速在12000/分范围内非常稳定,美国国家标准技术研究院(NIST)认证过;

3、采用PLC控制,速度无极调节,在启动之后一般工艺先以低速运转使胶摊开,然后自动变到高速运转,步骤转速及相应的时间分别可调;

4、数据模拟:匀胶实验时将一组设定的涂胶速度和时长数值输入系统,系统会据此计算出最佳的速度设定方案,带有速度随时间变化的曲线;

5、数据记录:为了提高实验的可重复性,设备会在数据记录模式下,实时记录下前一次工艺过程的实验实际值,并将该组数据存储并重复调用,达到近乎*一致的可重复性;

6NPP材质耐腐蚀及抗震;


匀胶机性能指标:

1、腔体尺寸:9.5英寸 (241 毫米)

2Wafer芯片尺寸:10-150mm直径的材料,方片125x125mm

3、转动速度:0-12,000rpm

4、旋涂加速度:0-12000rpm/sec(空载);

5、马达旋涂转速:稳定性能误差<±1%

6、转速调节精度:<0.2rpm,重复性< 0.2rpm

7、工艺时间设定:1-5999.9 sec/step 0.1精度;

8、匀胶机材质:NPP天然聚丙烯材质,抗腐蚀性和抗化学物性,美观大方;

9、高精度数码控制器:PLC控制,设置点精度小于0.006%

10、程序控制:可存储20个程序段,每个程序段可以设置51步不同的速度状态;

11、分辨率:分辨率小于0.5/分,可重复性小于±0.5/分,美国国家标准技术研究院(NIST)认证过的,并且无需再校准!

12、配套真空泵系统:无油型 220~240伏交流,50/60赫兹;

13、配套分析软件:SPIN3000操作分析软件;

14、配套水平测试仪


应用领域:

钙钛矿太阳能电池Perovskite solar cells

有机太阳电池

OPV有机光伏

OLED有机发光二极管

OFET & TFT有机场效应晶体管&薄膜晶体管

Graphene &2D石墨烯&二维材料

Substrates衬底

Materials材料



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