AF1 光学仪器设备
产品简介
优电控:10工位单独功率控制(0〜12W,精度0.1 W)、时间控制(0-99 h )。
多光波:365〜975 nm区间精准光源,40余种规格选配。
强光照:光强度高达近500 mw/cm2,低光损(光衰<5 %/年)。
多适配:适配10/25/50 mL反应管,其他尺寸接受定制。
■应用领域
•各类有温度控制要求的光合
详细信息
■产品定位
有效解决光辐射热问题,区分光效应和光热效应。
■产品特色
准温控:金属组件,有效传热,外置控温设备辅助控温(0-50℃)。
优电控:10工位单独功率控制(0〜12W,精度0.1 W)、时间控制(0-99 h )。
O多光波:365〜975 nm区间精准光源,40余种规格选配。
O强光照:光强度高达近500 mw/cm2,低光损(光衰<5 %/年)。
O多适配:适配10/25/50 mL反应管,其他尺寸接受定制。
■应用领域
•各类有温度控制要求的光合成反应(如低温、恒温反应),避免室温大幅变化、光源高 辐射热量等
对反应稳定性、重复性等带来的影响,光化学反应器的应用光化化学反应是指在可见光、紫外光能量激发下产生的化学反应过程。光化学反应被广泛的应用于制药、农药、食品添加剂、有机化学的合成、环境保护(废水处理)、化学分析以及生命科学等领域。
■适用场景
适用于高温控的光合成研究(如低温、恒温反应),避免室温大幅变化、光源辐射热量对反应稳定性、重现性带来的影响。