H/D 水解/衍生工作站
产品简介
详细信息
本工作站具有样品水解和衍生需要的功能。反应瓶架可容纳12个样品管。一个杜瓦瓶和冷凝器用于防止玷污。加热器可为4个反应瓶架提供稳定的温度控制。
温度:150℃
低温度:温度读出精度±2℃
稳定时间:10分钟(从环境温度到60℃)
温度稳定性:在超过10分钟的时间范围内为±1.0℃或更高
温度重现性:±0.5ºC或更好
抽真空时间:6分钟内可达60毫托
氮气大输入压力:8 psi
本工作站具有样品水解和衍生需要的功能。反应瓶架可容纳12个样品管。一个杜瓦瓶和冷凝器用于防止玷污。加热器可为4个反应瓶架提供稳定的温度控制。
温度:150℃
低温度:温度读出精度±2℃
稳定时间:10分钟(从环境温度到60℃)
温度稳定性:在超过10分钟的时间范围内为±1.0℃或更高
温度重现性:±0.5ºC或更好
抽真空时间:6分钟内可达60毫托
氮气大输入压力:8 psi