LT3B-OM UHV显微型连续流低温恒温器
产品简介
详细信息
LT3B-OM恒温器专为UHV显微拉曼设计，可烘烤至150℃，所有法兰通用铜片密封。也适用于其它各类低振动要求的光学显微实验。窗口专为科学实验而设计，可现场更换。
典型应用
• 光学显微
• 显微拉曼
• 量子点
• 光致发光
• 显微-光致发光
• 光电实验
• 磁光实验
典型特点
• 连续可调样品高度
• 1.52英寸的高度
• 纳米级振动
• 液氦流
• 基质热交换
• 同轴流屏蔽层流
• 4 K 液氦操作 (泵抽可达1.7 K)
• 4.2K下液氦消耗率为0.7 LL/hr
• 兼容液氮(77 K操作)
• 流量控制
标准结构
• LT3-OM冷台
• 同轴流动液氦传输管线
• 不锈钢仪表群
• 杜瓦置适配器
• 流量板面用于液氦流速控制及优化
• 镍镀金无氧铜防热辐射屏
• 供温度测试和控制的仪表群：
• 10 针密封电学接头
• 36 欧姆片状加热器
• 为控温而备的精度为± 0.5 K的硅二极管温度计
• 精度为±12 mK的校准型硅二极管温度计(带4英尺线缆供样品的测试）
• 用于光学实验的平板样品座
• 温控仪
可选配置及升级选项
• 传输升级
• 为于磁体室温孔匹配
• 液氦传输管线
• 高温台
• 更高温台
• 可定制温度计结构
• 可定制接线结构
• 可定制窗口材料
• 可定制样品座
技术参数
冷却技术 | |
LT3B | 开环制冷，Helitran |
制冷方式 | 液氦流 |
制冷剂 | 液氦，可兼容液氮 |
温度 | |
LT3B | < 4.2K - 350K (泵抽情况下<2K) |
加800K高温台 | （低温+2K）-700K |
加450K高温台 | 低温-450K |
温度稳定性 | 0.002K |
样品空间 | |
直径 | 大，开放式防热辐射屏 |
高度 | 大，开放式防热辐射屏 |
恒温器型号 | LT3B | |
制冷剂 | 液氦 | |
低温度 | 4.2K | 泵抽情况下<2K |
4.2K下液氦消耗 | 0.7LL/hr |
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制冷量 | 0.7LL/hr | 2LL/hr |
4.2K | 0.5W | 1.5W |
20K | 3.0W | 8.0W |
50K | 7W | 20W |
制冷时间 | 20分钟 | |
结构图
典型案例
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麻省理工学院的Comin实验室，LT3B OM低温恒温器安装在两维移动平台上用于样品校准。 |
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装在Horiba拉曼光谱仪上的用于超高真空环境的LT3B-OM |
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