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       Advance Riko-经济型RTP快速退火炉 RTP-6升温速率可达80℃/s。
 

　　Advance Riko-经济型RTP快速退火炉 RTP-6采用抛物线形的黄金反射面，可均匀热处理6英寸的圆晶。该系统可进行快速的热处理，适合热处理工艺的研究与开发。可用于半导体工艺中硅化物的形成以及半导体化合物的过程退火。
 

　　应用：
 

　　1、离子注入后的活化退火
 

　　2、沉积氧化膜的退火
 

　　3、欧姆电极合金化
 

　　4、PZT，SBT和其它铁电薄膜的结晶退火
 

　　5、硅化物及自对准硅化物的生成
 

　　6、发光元件，半导体激光基板的热处理
 

　　7、超浅结的生成
 

　　8、铁电电容器沉积
 

　　9、栅氧化膜的生
 

　　特点：
 

　　l  快速热处理
 

　　l  腔体采用水冷，可进行快速降温
 

　　l  真空置换气氛后，可采用流动气氛进行热处理
 

　　l  温度程序设置和外部信号输入可以通过脑轻松控制
 

　　l  加热过程的温度数据也可以显示在电脑上
 

　　l  石英保护板(可选)可以安装在腔室内以防止污染
 

　　l  配备了各种安全措施
 

　　l  九个独立的加热区可实现不同尺寸样品均匀的温度控制
 

　　组成：
 

　　1、红外金面反射炉
 

　　2、加热腔
 

　　3、可编程温控器
 

　　4、9个独立的加热区
 

　　5、跨度变换单元
 

　　6、气体管路系统
 

　　7、热气排出系统
 

　　8、炉体框架，开关板
 

　　9、高温计(可选)
 

　　10、水冷机(可选)
 

　　11、真空泵(可选)