DE350 SIO2 SPUTTER 北京高校物理电子实验室DE350 Sputter 二氧化硅溅射系统
产品简介
详细信息
前开门溅射腔体
冷凝泵和干泵
1个6” 磁控溅射源
射频电源
侧面溅射
zui大6”基片
基片水冷
PID溅射压力控制
系统手动或自动控制
高速率溅射二氧化薄膜
Sputter 磁控溅射薄膜沉积系统 主要产品:
E-Beam 电子束蒸发薄膜沉积系统
Thermal 热阻蒸发薄膜沉积系统
PLD 脉冲激光镀膜系统
Sputter Sources 磁控溅射阴极
DC/RF Power Supply 直流/射频电源
E-Beam Sources 电子束蒸发源
Thermal EVP Sources 热蒸发源
Deposition Materials 溅射靶材和蒸发镀膜材料
Sample Manipulator 样品台
Feedthroughs 电子穿导器件
Vacuum Valves 真空阀门
Vacuum Components 真空配件
的品质、优质的服务是我们的宗旨!