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• LOAD LOCK预真空进样室（可选）
• 前开门溅射腔体
• 冷凝泵和干泵
• 3个磁控溅射源
• 直流、射频或脉冲电源
• 朝上或朝下溅射
• zui大6”基片
• 基片旋转
• 基片偏压（可选）
• 基片加热1000度（可选）
• 多达四路工艺气体
• PID溅射压力控制
• 系统手动或自动控制
• 良好的薄膜均匀性和重复性
• 可沉积金属、半导体和绝缘材料
• 可沉积多层膜及合金薄膜   
  

德仪科技有限公司专业进口美国磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发和脉冲激光真空薄膜沉积设备，以及磁控溅射源/电源、电子束蒸发源、溅射靶材和蒸发材料等。十几年来，凭着的品质，*的技术和周到的技术服务，德仪公司的产品为中国的高校、科研院所及企业的薄膜沉积工作提供了有力的支持。

                 Sputter 磁控溅射薄膜沉积系统
                  E-Beam 电子束蒸发薄膜沉积系统 
                  Thermal 热阻蒸发薄膜沉积系统
                  PLD 脉冲激光镀膜系统 
                  Sputter Sources 磁控溅射阴极
                  DC/RF Power Supply 直流/射频电源
                  E-Beam Sources 电子束蒸发源 
                  Thermal EVP Sources 热蒸发源
                  Deposition Materials 溅射靶材和蒸发镀膜材料
                  Sample Manipulator 样品台 
                  Feedthroughs 电子穿导器件
                  Vacuum Valves 真空阀门 
                  Vacuum Components 真空配件 
  
                  的品质、优质的服务是我们的宗旨！