DE350SIO2 物理实验室DE350 Sputter 二氧化硅溅射系统
产品简介
我们期待为您提供您使用的真空薄膜沉积设备和部件
详细信息
- 前开门溅射腔体
- 冷凝泵和干泵
- 1个6” 磁控溅射源
- 射频电源
- 侧面溅射
- zui大6”基片
- 基片水冷
- PID溅射压力控制
- 系统手动或自动控制
- 高速率溅射二氧化薄膜
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主要产品：
Sputter 磁控溅射薄膜沉积系统
E-Beam 电子束蒸发薄膜沉积系统
Thermal 热阻蒸发薄膜沉积系统
PLD 脉冲激光镀膜系统
Sputter Sources 磁控溅射阴极
DC/RF Power Supply 直流/射频电源
E-Beam Sources 电子束蒸发源
Thermal EVP Sources 热蒸发源
Deposition Materials 溅射靶材和蒸发镀膜材料
Sample Manipulator 样品台
Feedthroughs 电子穿导器件
Vacuum Valves 真空阀门
Vacuum Components 真空配件
的品质、优质的服务是我们的宗旨！