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台式等离子蚀刻机/灰化系统，适用于多种多样的样品材料和工艺气体。

Plasma Prep III是Plasma Prep系列产品的成员。该系统加入了固态技术，包括一体式真空计。该系统采用低成本设计，比如只设单一气体进口。添加选配的工艺控制模块可以扩展系统的功能，实现多种气体精确混合，并且当工艺完成时，可以自动关闭系统。

典型应用领域：

• 电子显微观察样品制备

• 替代湿法化学蚀刻

• 去除光阻残留物

• 去除有机污染物

• 孔眼清洗

• 石棉分析

• 失效分析

系统规格：

• 13.56 MHz射频等离子体(RF plasma)

• 桶式设计反应室

• 功率可调节，从1到100瓦

• 一体式真空计

• 尺寸：12″宽×15″深× 10.5″高

（31 cm宽×38 cm深×27 cm高）

• 反应室尺寸：4″直径×6″深

• 获得CE认证，符合RoHS

系统包括：

• Plasma Prep III

• 派热克斯玻璃或石英反应室

• 真空软管（NW 16）

• 电线

场所要求：

• 工艺气体：5磅/平方英寸（表压）

• 真空泵

• 电力：100 V to 240 V, 50/60 Hz