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实验室常用设备制样/消解设备匀胶机

KW-4A 中科院微电子研究所匀胶机/旋涂仪送3吸盘

供应商:
北京通世华港设备有限公司
联系人:
郭经理 查看联系方式
地址
北京

产品简介

中科院微电子研究所匀胶机/旋涂仪送3吸盘适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点,并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。目前的型号有KW-4A、KW-4T和KW-5型。

详细信息

中科院微电子研究所匀胶机/旋涂仪送3吸盘

适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点,并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。目前的型号有KW-4A、KW-4T和KW-5型。 

 

产品主要特点 

1、开关电流调速,稳定性能更好,转速调节以数字显示为准。 

2、转速在500~8000转/分范围内非常稳定。   

3、采用双转速。在启动之后,先以低速运转,使胶摊开,然后自动转换到高速运转。两种转速及相应的时间分别可调,时间分别控制在1~18秒和3秒~1分钟。 

4、具有定时功能。  

5、测速采用光电的办法,产生光电脉冲,由晶体分频测速准确性高。  

6、"吸片"采用电磁阀控制气路,一个气泵可同时带几台匀胶机工作,适合流水线的工艺,提高了效率。   

7、在安装结构上,采取了减振措施,保证了在运转时噪音低。

 中科院微电子研究所匀胶机/旋涂仪送3吸盘参数

参数

指标

调速范围和匀胶时间

Ⅰ档调速范围:500-2000转/分Ⅰ档匀胶时间:2-18秒

Ⅱ档调速范围:1300-8000转/分Ⅱ档匀胶时间:3-60秒

适用

Φ5-Φ100mm硅片及其它材料等匀胶

电机功率

40W

LED数字显示

转速稳定度:±1%,胶的均匀性:±3%

真空泵抽气速率

≥60升/分

仪器尺寸

210×220×160mm

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