RTP-1300 RTP-1300四英寸快速退火炉（RTP）
产品简介
型号：RTP-1300，RTP-1600；
RTP-1300四英寸快速退火炉（RTP）
RTP-1300, RTP-1600为Ecopia进口真空快速退火炉，仪器带有控制软件，为台式设计。
RT-1300可以退火100mmX100mm尺寸的样品，RTP-1600可以退火150mmX150mm尺寸的样品。
详细信息
RTP-1300四英寸快速退火炉(RTP)技术规格：
- 加热方式：红外卤素钨灯，1.2KW/支；
- 卤素红外灯数量：12支，或18支；
- 快升温速率：100℃/秒；
- 快降温速率：60秒(1000℃ → 400℃)；
- 额定温度：1200℃；
- 温度精度：+/-1℃
- 大样品尺寸：100 X 100mm, 或150mm X 150mm；
- 退火环境：真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等)；
- 真空泵及极限压力：机械泵，10-3Torr水平(选配)；
- 电压：220 V，单相或三相；
- 仪器尺寸：500 X 400 X 500mm (W X D X H)；
- 质量：净重60Kg；
RTP-1300四英寸快速退火炉(RTP)仪器特点：
- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下，对样品进行快速热处理；
- 温控精度高；
- 适合高校或研究所科研使用；
- 带有RTP控制软件；
- 紧凑的台式设计；
- 仪器操作方便，样片装取容易；
- 价格合理，高性价比；
应用领域：
- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
- 硅化 (Silicidation);
- 扩散 (Diffusion);
- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
- 离子注入后退火 (Implant Annealing);
- 电极合金化 (Contact Alloying);
- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);
- 合金熔点分析；
- 薄膜沉积；
等等…
RTP-1300快速退火炉参考用户：
北京师范大学、北京理工大学、昆明理工大学、中国科大、东南大学、西安交通大学、陕西师大、渤海大学、中科院苏州纳米所、国电光伏、苏州新磊等...