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徕卡高真空镀膜仪 Leica EM ACE600

仪器可选离子溅射镀金属膜，满足高分辨场发射扫描电镜（FESEM）需求。可选碳丝蒸发镀碳膜，用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。还可以选择电子束蒸发方式镀膜，获得极其细腻的金属膜与碳膜，可用于DNA投影等特殊用途。

徕卡高真空镀膜仪 Leica EM ACE600主要技术参数：

· 可任选离子溅射模式，碳丝蒸发镀碳模式，碳棒（热阻）蒸发模式，电子束蒸发模式，双溅射模式，溅射-碳丝模式，溅射-碳棒模式，溅

射-电子束模式，双电子束模式，可兼容EM VCT100冷冻传输系统，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

· 设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度

· 内置石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm

· 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

· 触摸屏控制，简单方便

· 采用隔膜泵+涡轮分子泵，无油真空系统，真空度2×10-6mbar

· 溅射电流：0-150mA可调

· 方形样品仓设计，样品仓尺寸：200mm（宽）×150mm（深）×195mm（高）

· 样品台内置旋转，工作距离调节范围：30mm-100mm