| SET 1 操作简便，一个指令即可开始全自动测定。 测定条件的选择过去一直依赖操作者的判断，现在改由装置自动判断，即使初学者也可简便·高精度地测定。 |
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SET 2 |
放置样品 | ● | 将样品放在分析位置，利用样品图像观察装置确认分析位置。 | ● | 选择分析区域。 | ● | 关闭样品室。 |
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| 选择分析条件／输入样品名称 | ● | 一个画面中可以同时显示样品图像、选择分析条件、输入样品名称。 | ● | 点击开始。 |
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SET 3 |
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| 显示分析结果 | ● | 测定结束后，画面上将清楚显示5种元素的［合格判定］、［含量］、［3σ（测定偏差）］。 | ● | 点击即可显示［结果列表］或［创建报告书］。 |
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| | 只需1次点击，便可根据预先登录的分析条件， 自动执行从测定到结果的一系列操作。 |
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■ 校准曲线自动选择功能 |
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| 不含有害元素时，测定过程中能够判定结果时，即自动终止测定，缩短分析时间。 |
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■ 省时功能 |
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不含有害元素时 |
| 不含有害元素时，测定过程中能够判定结果时，即自动终止测定，缩短分析时间。 | ■ 适用省时功能的缩短时间示例 |
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| | 含量低于检出下限值时，判断不含有，测定自动结束。上述样品中Pb、Cd的含量均低于检出下限，与设定的200秒（=100秒＋100秒）分析时间相比，仅用了50秒（=25秒＋25秒）即结束分析，大幅度节约了时间。 | | 有害元素含量高时 |
| 由设定的目标管理精度自动决定测定时间。 在测定精度达到管理值时结束测定。 | ■ 适用省时功能的缩短时间示例 |
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| 测定高浓度元素时，在比设定的测定时间更短的时间内即可获得高强度，而且误差变小，由此可以大幅缩短时间。上述样品中Pb：7600ppm、Cd：52ppm,设定的分析时间为200秒（=100秒＋100秒），实际仅用了40秒（=15秒＋25秒）即结束分析，大幅度节约了时间。 |
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| 本装置配置了RoHS/ELV检测中*zui高的EDX－720型的半导体检测器、滤光片及高计数率电路。 |
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为什么需要高灵敏度？ |
| 能够测定更微量的元素。 测定时间更短，因此相同时间内测定数量更多。 |
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| | | | | 为什么需要高分辨率？ |
| 可以减轻目标元素附近的其他共存元素的重叠影响。 |
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| | | | | 为什么需要高精度？ |
| 在IEC提出的合格判定中，分析装置的重现性对判定结果有很大的影响，重现性越好（即测定精度越高），合格判定的准确度就越高。 |
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利用滤光片提高灵敏度／还可以进行高灵敏度的无卤素分析 |
| 标准配备了5种滤光片，可降低、除去形成背景成分的X射线管的散射线，提高检测灵敏度。 本装置在RoHS/ELV/无卤素分析中会自动选择3种zui合适的滤光片，进行高灵敏度测定。 |
| | 受X射线管Rh的特征X射线影响的Cl也可以测定 |
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| 微量成分：Cl（除去特征X射线） | 利用滤光片提高检测灵敏度 |
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| 微量成分：Pb（背景降低） |
| | 滤光片条件灵活，满足客户要求 |
| 如果您希望在短时间内对多个样品进行测定，*使用单个滤光片进行高速分析。 |
| | | 如果您希望对微量元素进行高灵敏测定，可以选择各种滤光片进行高灵敏度分析。 与单个滤光片高速分析相比，灵敏度约提高2～3倍。 |
| | <由滤光片进行高灵敏度分析> 测定时间：300秒（100秒×3通道） |
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EDX-GP标准配备了RoHS/ELV/无卤素分析所需的所有必要功能，用户无需购买特殊选购件，就可以获得*RoHS/ELV/无卤素分析系统。 |
标准配置改变照射直径的准直器＆样品图像观察组件 |
| 测定异物或者测定包含多个部位的样品时，通过样品图像观察组件在观察样品的同时，可以简单的设定分析位置。测定小样品或样品中特定位置时，可以使用准直器，更改X射线照射区域。 （1, 3, 5, 10 ｍｍφ） |
10mmφ图像（塑胶） | |
3mmφ（金属） | | | 形状校正功能 |
| 即使含量相同的样品，在形状和厚度不同时，X射线强度将发生变化，得到的定量值也会受到影响，EDX-GP通过使用BG内标法*，可以排除形状和厚度的影响，取得高精度结果。 ※ | BG内标法 通过散射X射线强度使各元素的X射线荧光强度标准化的一种校正方法。 |
| | | 测定结果列表管理 |
| 创建列表功能 |
| 已保存数据可以用Excel形式列表显示。 | |
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超大样品室可以对应各种样品形态及大小。 |
采用超大样品室 |
| zui大可以放置370mm长×320mm宽×155mm高的大型样品，令紧凑型机身*。 | |
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