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NanoMap-500LS 三维轮廓仪、台阶仪、白光干涉仪

供应商:
aep technology中国办事处
企业类型:
生产厂家

产品简介

NanoMap 500LS扫描三维表面轮廓仪
特点
 常规的接触式轮廓仪和扫描探针显微镜技术的*结合
 双模式操作(针尖扫描和样品台扫描),即使在长程测量时也可以得到*化的小区域三维测图
 针尖扫描采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式,三维扫描范围从10μm X 10μm 到500μm X 500μm。样品台扫描使用高级别光学参考平台能使长程扫描范围到50mm。
 在扫描过程中结合

详细信息

 

 NanoMap 500LS扫描三维表面轮廓仪 

特点 
常规的接触式轮廓仪和扫描探针显微镜技术的*结合 
双模式操作(针尖扫描和样品台扫描),即使在长程测量时也可以得到*化的小区域三维测图 
针尖扫描采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式,三维扫描范围从10μm X 10μm 500μm X 500μm。样品台扫描使用高级别光学参考平台能使长程扫描范围到50mm 
在扫描过程中结合彩色光学照相机可对样品直接观察 
针尖扫描采用双光学传感器,同时拥有宽阔测量动态范围(zui大至500μm)及亚纳米级垂直分辨率 (zui小0.nm  
软件设置恒定微力接触 
简单的2步关键操作,友好的软件操作界面 
应用 
三维表面轮廓测量和粗糙度测量,即适用于精密抛光的光学表面也可适用于质地粗糙的机加工零件。 
薄膜和厚膜的台阶高度测量 
划痕形貌,磨损深度、宽度和体积定量测量 
空间分析和表面纹理表征 
平面度和曲率测量 
二维薄膜应力测量 
微电子表面分析和MEMS表征 
表面质量和缺陷检测 
环境要求 
湿度:10-80%, 相对湿度,无冷凝 
温度:65-85 华氏度(△T1/小时) 
电源要求:110/240V50/60 Hz 

技术规格 
类型 项目 规格 
综述 小范围XY扫描头,提供高精确度 
XY平台扫描,提供大尺度测量 
带亮场和暗场的全时彩色CCD照相机 
软件控制触针测量力,范围 0.1-100mg 
触针针尖半径选件 2μm5 μm12.5 μm25 μm0.1-0.8μm可选 
针尖扫描 
(Piezo扫描器台阶高度重现性 0.8nm 
垂直分辨率 0.1nm 
测量高度精细范围 5μm 
测量高度粗略范围 0.5mm 
XY扫描分辨率 0.1μm 
XY扫描定位重现性 0.2μm 
扫描速度 10-50μm/sec 
扫描范围 10-500μm 
每次扫描数据点 100-1000数据点 
样品台扫描 XY样品区域 100mm X 100mm, 150mm安装间隙 
XY平台运动范围 100mm X 100mm150mm X 150mm 
XY平台定位重现性 5μm2μm可选 
zui大扫描长度 50mm 
扫描速度 0.1-5mm/sec 
Z平台范围 55mm 
zui大样品高度 50mm 
手动旋转平台范围 360 
手动倾斜平台范围 ±2 
标准样品 台阶高度标准样品(NIST认证) 100μm 
系统 光学照相机视场范围 1.5 X 1.5mm 
光学照明 软件控制暗场和亮场 
电脑 Pentium IV, USB2.0联接 
操作系统 Win XP 
系统动力需求 90-240V350W 
空间尺寸 20’ 宽X 22’长 X 25’高 
重量 160lb 
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