低温催化-高温除氮型纯化系统

此纯化系统使用自制催化剂,此催化剂使用寿命长，纯化深度高，抗原料气瞬间波动能力强;采用物理吸附和化学反应工艺，先在室温下将惰性气体和氢气（H2）中大量杂质H2O、O2、CO、CO2脱除，然后再通过高温吸气塔将残余的杂质及N2脱除，使出口纯气杂质除到1ppb以下 。此设备具有使用寿命长，操作简单等特点。

产品性能

◎适合与不低于99.999%纯度的原气配合使用。                              

◎此产品为双式结构，一组工作，另一组再生备用                            

◎纯化深度高，出口各种杂质含量＜1ppb    

◎电化学抛光316（L）不锈钢                    

◎内置0.003微米高效过滤器

◎此纯化器配置有预纯化塔，在贵重消耗型吸气剂塔之前除去大量的杂质，这样能延长贵重消耗型吸气剂的使用寿命

产品应用 

◎高纯单晶硅、晶片外延、大规模集成电路、光电产品生产等电子工业气体终端纯化                      

◎半导体工艺设备：CVD、MOCVD、HVPE、扩散炉等  

◎大宗气体纯化

系统参数