日前，第三届ALD应用会议及2016中国ALD大会在美丽的古城苏州落下帷幕。来自世界各地的技术专家们共聚一堂，交流各自实验结果与心得。如今，原子层沉积技术已广泛应用于许多领域，例如微电子，光电子，光学薄膜，纳米功能材料，微机电/纳米电磁系统，能量存储，生物技术，催化技术等等。这归功于原子层沉积技术一些*的优势，例如纳米级厚度的控制，以及相对较低的沉积温度和化学成分等。尤其在微电子领域，原子层沉积在*的集成电路装备high-k金属栅极，隔离垫片，以及超薄铜互联扩散障碍等方面均有突出表现。此外，原子层沉积在太阳光电，柔性电子元件，有机电子，平板显示及其他新兴领域也越来越受重视。

　　我司作为重要展商出席了本次会议。来自宝岛中国台湾的我司等离子技术应用工程师黄承扬作了题为《应用于功率半导体的原子层沉积》的学术报告，报告涉及氮化镓高电子迁移率晶体管，等离子体种类的控制和影响，原子层沉积之前的预处理，氮化铝及其他氮化物的原子层沉积等相关研究，获得了在场专家学者的*。

　　我司将继续以支持中国科学研究发展为己任，为中国广大科研人员提供高性能、高可靠性的等离子设备等；同时我司的服务团队也可以为用户提供系列服务套餐，包括配件和耗材、延保合同、产品培训、服务维修和等。