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关于JPK NanoWizard 4 XP
1)集高分辨、快速扫描和便捷性于一身
全新的NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM融合闭环原子级分辨率与 100 μm 扫描器于一体。大范围扫描器可以在样品上进行大范围的精确移动,并直接访问感兴趣的特征区域。精密的机械工程与的电子设备提供了当今市场上的稳定性与的噪音水平,保证了杰出的高性能和可靠的高分辨成像。全新的Vortis™2 控制器采用的 FPGA 技术,实现高速的信号处理与控制。可选的快扫功能提供高达150 Hz 线速率的扫描性能。
2)PeakForce Tapping®——高质量成像技术
PeakForce Tapping® 技术作为一种满足您所有需求的成像模式已经赢得了业界广泛赞誉。无论是何种样品、何种环境,该技术都可以提供的力控制和良好的易用性。该技术可以精确的控制探针与样品之间的相互作用力,并可以的降低成像所需的作用力,从而保护探针与样品,确保稳定的、长时间的高分辨成像。
3)杰出的易用性:快速获取高质量数据
JPK的 V7 软件可以优化工作流程,帮助加速科学成果产出。简单直观的设置可以帮助初学用户快速上手,获得可靠且可重复的结果,节省了宝贵的研究时间。其灵活的工作理念使经验丰富的用户可以直接访问专家功能和高级反馈模式,同时也可以使用一键校准和简化设置以提升产出效率
4)大扫描器快速扫描的新基准
经过验证的 JPK 快速扫描技术现在已经可以用于NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM 平台。该系统兼具 150 Hz 的线扫描速率与大扫描范围,可提供的优异性能。它为所有组件提供了的带宽,精确的力控制和快速的反馈。以前的快速扫描受到扫描范围的限制,只能在很有限的
扫描范围内才可以实现快速扫描。如今,大扫描范围下的扫描速度成为变为现实,消除了 XY 方向大范围扫描和Z方向大落差扫描的限制。完整的 100 μm×100 μm 横向扫描范围仍可以应用的测量速度,用户可以轻松的在样品特征位置之间切换,而无需重新定位样品或牺牲成像速度。使用全新的 NestedScanner™ 技术,现在可以对高度差可达16.5μm 的结构表面进行快速成像。研究人员可以在大起伏或陡峭样品表面以空间时间分辨率进行动态过程研究。
5)高通量与动态观察——材料学研究的利器
快速扫描功能提供了实时高分辨研究所需的速度和准确性,可以帮助理解结晶、生长、熔化、相分离、畴状结构产生或岛结构的形成等现象。JPK 的探针扫描设计,允许使用各种 NanoWizard ® 环境控制附件,这些附件可以加热或冷却样品,交换气体或液体,或者对样品施加外部机械力。
6)扩展测量加快研究进程
快速扫描功能与 ExperimentPlanner™ 软件功能结合使用,基于此用户可以利用兼容的电动载物台自动的将样品从一个感兴趣的区域移至下一个感兴趣的区域,从而快测量多个位置并大大提升产出效率。优化的视频制作工具使得数据处理比以往任何时候都更加容易。
快速扫描功能的优势
a)提升产出效率:
快速获取数据并对多个区域进行快速测量
b)使用NestedScanner™ 技术
对高落差或大起伏样品表面进行快速测量
c)样品动态过程实时观察分析
d)聚合物、薄膜或其他功能材 料的延时观察与分析
7)多种电学测量模式---对样品进行电学表征
NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM 拥有多种工作模式与附件的支持,工作模式与附件有着易于操作的设计,可满足研究人员个性化的需求。多种材料材料表征(包括电学表征)可以在密闭样品池中进行,以实现惰性气体气氛环境下的测量。
a)导电原子力显微镜(CAFM)
b)开尔文探针原子力显微镜 (KPM AFM)
c)电化学 (EC) 与扫描电化学 (SECM)
d)扫描隧道电流显微镜 (STM)
e)基于高级 QI™ 模式的扫描热原子力显微镜 (SThM)
f)压电力响应显微镜 (PFM)
g)静电力显微镜(EFM)
h)磁力显微镜(MFM)
8)追寻样品的特征——样品分析就在弹指之间
a)易用性新标准兼顾质量与效率
全新的V7操作软件为实验提供了直观的工作流程。轻松选择预定义实验或最近使用实验,结合一键探针校准,可实现快速的实验导航与数据采集。上下文关联的帮助提示,对调整与设置的状态实时反馈,可以轻松地获取有价值的数据同时直观地监测关键参数。
b)智能自动化测试加速产出效率
也的导航方式即直接可视化您感兴趣的区域。全新 DirectOverlay™2 提供了即时导航界面,可直接选取扫描器允许范围内任何的位置进行测量。马达驱动精密位移样品台和 HybridStage™ 可以解除AFM扫描器扫描范围对导航范围的约束,实现通过电动马达直接移动到选定的位置。全新的 DirectTiling功能可以自动创建大范围的光学导航成像,以加速自动化测试过程。MultiScan 功能可以拼接高分辨图像,已建立样品的全面概览。重复性或复杂程序性测试可以使用 ExperimentPlanner™生成宏命令自动执行。
c)基于 QI™ 模式和力曲线成像模式---强大的定量力学性能分析
高级 QI™ 模式使用线性运动的力曲线,可以轻松获得分辨率的形貌成像,同时获得力学和电学性质信息。每个像素点包含了对样品弹性、黏附力、耗散、化学相互作用或导电性进行完整定量分析所需的所有数据。软件拥有强大的批处理功能,全面的拟合设置与具有多种模型的模量拟合功能可提供的性能。NanoWizard® 4 XP 同时还提供了快速力曲线成像模式、单分子力谱以及单细胞力谱模式。
全面的纳米力学测量模式
a)具有接触点成像 (CPI) 的高级 QI™ 模式
b)RampDesigner™ 用于复杂力谱实验设计
c)快速力曲线成像模式
d)微观流变学测量
e)摩擦力显微镜
f)接触共振成像
g)高次谐波成像(振幅调制、相位调制以及振幅调制)
h)力调制模式
i)纳米压痕与纳米操纵
9)全面的环境控制方案------为各种高级应用保驾护航
a)温度控制配件
b)电化学配件
c)小体积样品池配件
d)液体/气体氛围控制配件用于电学性质表征
10)一款真正的多用途平台------满足您持续增长的需求
a)灵活性与模块化设计:
现代实验室研究的基本要求NanoWizard® 系列 AFM 以其模块化的设计理念而闻名,可限度的满足所有组件的兼容性。AFM 扫描头可以兼容多代附件、样品台与功能模块,确保能效的延续性并实现成本经济的软硬件功能升级,从而使 NanoWizard® 4 XP 具有极大的灵活性,可以满足用户不断变化的应用需求。NanoWizard® 4 XP 是迄今为止功能最多的 AFM 系统,它提供了的光学集成以及数量的功能配件与工作模式,易于升级的特点确保其跟上功能革新与技术发展
的步伐。
b)简洁经济高效的升级方案
*Vortis™ 2 控制器或可选的高级 Vortis™ 2 控制器
*多种不同的测量头
*强大的软件功能模块
*数量的功能配件与工作模式
c)可在多种模式下施加不同外部刺激------实时控制样品状态
*可施加高压的压电力响应显微镜 (PFM)
*StretchingStage 施加外部机械荷载
*外加磁场
*电化学实验(以及扫描电化学显微镜)控制液体电势差
*纳米刻蚀与纳米操纵实现局部力学控制
*电导原子力显微镜实现光刺激
d)样品访问与易用性新亮点
*TopViewOptics™ 模块: 用于不透明样品的位置导航,同时兼容在倒置光学显微镜上使用。
*Head-up 样品台: 适用于可达 14 cm的高大样品。
*HybridStage: 马达驱动的样品扫描结合三轴压电陶瓷驱动的样品扫描(z方向不小于 100 μm) 实现样品大范围精确定位与样品扫描。
e)高级光学应用集成
*倒置光学显微镜
**宽场与共聚焦 (CLSM) 荧光
**光学超分辨技术 (STED, TIRF, PALM / STORM)
**荧光光谱技术 (FLIM, FRET, FCS, FRAP ...)
**拉曼光谱技术
**样品侧视成像 (50倍物镜)
*正置光学显微镜
**正置荧光显微镜套件 (UFK)
**BioMAT™ 生物材料工作站
*近场光学测量技术(包括 TERS 技术)。