科特莱思科热阻蒸发镀膜系统-Nano-36

科特莱思科热阻蒸发镀膜系统Nano36拥有LOAD LOCK预真空进样室（可选）、前开门蒸发腔体、冷凝泵和干泵、多个热阻蒸发源或OLED低温蒸发源。

在高真空下，电子枪灯丝加热后发射热电子，被加速阳极加速，获得很大的动能轰击到的蒸发材料上，把动能转化成热使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀膜。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速极和作为阳极的镀膜材料组成。电子束蒸发源的能量可高度集中，使镀膜材料局部达到高温而蒸发。通过调节电子束的功率，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率，特别是有利于高熔点以及高纯金属和化合物材料。可在高真空下蒸发不同厚度的各种金属与氧化物薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。

科特莱思科热阻蒸发镀膜系统-Nano-36

在高真空下，电子枪灯丝加热后发射热电子，被加速阳极加速，获得很大的动能轰击到的蒸发材料上，把动能转化成热使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀膜。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速极和作为阳极的镀膜材料组成。电子束蒸发源的能量可高度集中，使镀膜材料局部达到高温而蒸发。通过调节电子束的功率，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率，特别是有利于高熔点以及高纯金属和化合物材料。可在高真空下蒸发不同厚度的各种金属与氧化物薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料以及电子等领域。