蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，使之升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜，或加热蒸发镀膜材料的真空镀膜方法。
      物理过程由物料蒸发输运到基片沉积成膜，其物理过程为：采用几种能源方式转换成热能，加热镀料使之蒸发或升华，成为具有一定能量(0.1~0.3eV)的气态粒子(原子、分子或原子团)；离开镀料表面，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；到达基体表面的气态粒子凝聚形核生长成固相薄膜；组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合。
       蒸发镀膜仪将蒸发材料放在坩埚内，坩埚放置在高真空腔体中，通过高压灯丝发射电子，电子通过磁场偏转轰击到坩埚内的蒸镀材料表面，对蒸镀材料进行加热，电子束蒸发源的能量可高度集中，使镀膜材料局部达到高温而蒸发，实现蒸发镀膜。根据不同材料的性质分为固态升华和液态蒸发，整个蒸发过程是物理过程，实现物质从源到薄膜的转移。装有蒸发材料的坩埚周围有冷却系统，避免坩埚内壁与蒸发材料发生反应影响薄膜质量。通过调节电子束的功率，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率，特别适用于高熔点以及高纯金属材料，通过膜厚测量系统可实时精确测量蒸发速率和薄膜厚度。该设备可制备高纯薄膜，是微纳结构制备中*的工艺设备。